檢索結果：共10筆資料 檢索策略： "indium".ekeyword (精準) and cdept.raw="化學工程系"
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在本論文中我們使用射極-濺鍍沉積參鎢氧化銦以及氫化氧化銦之透明導電膜，期望能利用該等材質較高的功函數以及光學透過特性應用於矽晶異質接面太陽能電池的製作上，以獲得較佳電池轉換效率之表現。實驗結果顯示，…
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現今，銦及其化合物有多種工業用途，而稀土金屬如釔(Y)和銪(Eu)則廣泛應用在電子產品中，此三種稀有金屬的需求量大，但供應量低，因此被視為是最關鍵的材料。隨著電子產品設計日新月異、其生命週期短縮，近…
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本實驗探討以電透析程序自酸性水溶液中去除銦的可行性。在硫酸介質中以不同酸鹼值及銦濃度了解其對銦去除率及回收率之影響，並評估其反應機制。其中嘗試將陽離子膜浸泡於含銦溶液中進行前處理，以減少吸附造成之誤…
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現今，銦和他的化合物有多種工業用途，並且廣泛的被使用在製造薄膜晶體管液晶顯示器(TFT-LCD)、半導體、低溫焊料和紅外探測器。但是銦是廣泛的分布於各處，並沒有單獨的儲藏區，它是鋁和鋅初級產品的副產…
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本研究利用射頻電漿濺鍍沉積氧化銦錫(ITO)薄膜於水溶性高分子polystyrene sulfonate (PSS)上，以翻膜轉印之技術將ITO薄膜轉移至有機高分子材料表面，作為有機光電元件之透明電…
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隨著半導體材料、觸媒及核子應用的興盛，稀有金屬如銦(In)、鎵(Ga)、鈀(Pd)和鍶(Sr)，是不可或缺且廣泛運用於製造過程中的。然而我們對其於自然環境中的命運與傳播途徑，及其對生態系統和人體健康…
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本研究在於改良薄膜轉印法之犧牲層，利用射頻磁控濺鍍氧化銦錫(ITO)薄膜於犧牲層基板上，並藉由轉印法將ITO薄膜轉印至有機光電元件的高分子主動層上，可得到可見光透明薄膜電晶體，亦可避免濺鍍過程及退火…
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本論文研究方向是以水熱法合成非晶系前驅物後，調配成水系漿料，再利用刮刀進行漿料塗佈，經硒化還原反應後，製備硒化銅銦鎵薄膜吸收層。本研究首先成功建立以高壓釜取代小型微波反應器，來輔助水熱法製備大量之硒…
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本研究利用原子層磊晶(ALE)技術合成氮化鎵(GaN)及氮化銦鎵(InxGa1-xN)三元混晶膜。以二乙基一氯鎵(DEGaCl)及氨氣(NH3)作為反應原料，並選用已成長氮化鎵的藍寶石磊晶片為基材，…
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本研究乃利用陽極氧化法在含有氟化銨與水之乙二醇電解液中製備陣列式二氧化鈦奈米管光觸媒，並藉由場發式電子顯微鏡、X射線電子能譜儀、X射線繞射光譜儀、定電位/恆電流儀以及螢光光譜儀對光觸媒進行物性及光電…